黄仁勋还补充提到 ，勋马
两位全球科技行业头部企业的惊人掌舵人先后给出的相似判断 ，中国就能依靠自主突破的欧美光刻技术与成熟芯片制造体系，一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，怕中目前中国本土的国自AI大模型技术 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的研光推进速度远超外界此前的预期，正在逐步形成合力 ，刻机补齐当前阶段的啥时斯克算力供给缺口。中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，几乎站在了全球顶尖梯队 。
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，大概两到三年时间内，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘 。这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，大概两到三年内 ，
他进一步解释，
早前举办的All-In科技峰会上 ，
马斯克也提到 ，靠单位算力输出的实际性能 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，从整体表现来看完成度非常出色，